Nella progettazione di sistemi a vuoto ultra elevato (UHV) e a vuoto estremamente elevato (XHV), il materialedisgasamentoQualsiasi traccia di rilascio di volatili può innescare instabilità del plasma o contaminare rivestimenti ottici di precisione.Macor® Machinable Glass Ceramic, grazie al suo avanzamento unico nella tecnologia "Zero Porosity", fornisce agli ingegneri del vuoto un materiale ideale che bilancia le prestazioni ceramiche con tassi di fuoriuscita di gas eccezionalmente bassi.
A livello microscopico, la maggior parte dei materiali industriali non sono perfettamente densi.
L'effetto di trappola: Le ceramiche e i polimeri convenzionali contengono spesso pori di dimensioni micron che fungono da "trappole" per le molecole d'acqua, gli idrocarburi e i gas atmosferici.
Il processo di fuoriuscita di gas: Durante il pompaggio, questi gas intrappolati si diffondono lentamente attraverso i microcanali verso la superficie e vengono rilasciati nella camera, creando persistenti "fuga virtuali".
Macor®'s Advancement (Progressione di Macor®): Attraverso la precisa integrazione di piastrine di mica di fluoroflogopite altamente cristalline all'interno di una matrice di vetro, Macor® ottiene0% di porosità.Ciò significa che non c'è spazio interno per il blocco del gas, eliminando sostanzialmente il rischio di fuoriuscita di gas in massa.
Per la selezione dei materiali B2B, la compatibilità con il vuoto deve essere convalidata da parametri tecnici.
Zero porosità (0%): non garantisce permeabilità o intrappolamento, facilitando una rapida discesa a pressioni UHV.
Permeabilità dell'elio (<10^{-10}$cc/sec): Fornisce una tenuta ermetica superiore per i contenitori e i rilevatori ad alto vuoto.
Durata di cottura (800°C): consente cicli aggressivi di cottura ad alta temperatura per rimuovere gli adsorbati superficiali senza degradazione strutturale.
Inerzia chimica: Una composizione inorganica e non magnetica garantisce l'assenza di decomposizione o contaminazione metallica sotto stress sotto vuoto.
Grazie al suo controllo delle emissioni di gas, Macor® è indispensabile in settori industriali critici per la purezza:
Implantazione di ioni semiconduttori: In ambienti con raggi ionici intensi, i supporti Macor® non rilasciano impurità sotto stress termico, salvaguardando la purezza chimica del wafer.
Fonti di luce sincrotron: utilizzato per montature ottiche, la sua natura non magnetica e la sua stabilità nel vuoto mantengono l'allineamento delle linee di fascio con precisione micrometrica.
Riproduzione a vuoto: come isolante multi-pin, la sua combinazione di45 kV/mm.La resistenza dielettrica e la porosità dello 0% creano un perfetto equilibrio tra trasmissione di potenza e tenuta ermetica.
Per gli integratori di sistemi a vuoto a livello globale, il valore di Macor® può essere valutato attraverso questi vantaggi strategici:
Cicli di cottura ridotti: Poiché il materiale non assorbe ingenti contaminanti, il tempo necessario per raggiungere il vuoto finale è significativamente ridotto rispetto alle alternative porose.
Fabbricazione interna di componenti complessiLe camere a vuoto richiedono spesso geometrie complesse.La lavorabilità di Macor® consente agli ingegneri di fabbricare parti con fili di precisione e fori di ventilazione (per evitare che il gas si intrappoli nei fori ciechi) utilizzando strumenti standard di officina.
Stabilità del ciclo di vita: a temperature di funzionamento fino a800°C, Macor® mantiene le dimensioni costanti, evitando i guasti di tensione causati dall'espansione termica comune in altri materiali isolanti.
Persona di contatto: Daniel
Telefono: 18003718225
Fax: 86-0371-6572-0196