Componenti del carburo di silicio di alta precisione per i processi a semiconduttore e le attrezzature ottiche del macchinario

Applicazioni tipiche

• Nella fabbricazione a semiconduttore, i wafer estremamente sottili sono disposti sui polloni di vuoto del carburo di silicio, collegati ad un generatore di vuoto ed i wafer sono riparati da aspirazione di vuoto.

• Utilizzato nella litografia, incisione, nell'elaborazione del laser, nella prova del wafer ed in altri processi.

Caratteristiche e vantaggi

• Dimensione accurata e stabilità termica

• Buona conducibilità termica, coefficiente di espansione basso ed uniformità di temperatura

• Estremamente sulla resistenza all'usura e la finitura di superficie, dimensione fine del poro e distribuzione uniforme, può essere adsorbita uniformemente a tutte le aree del wafer

• Resistenza della corrosione eccellente dell'alcali e dell'acido

• Resistenza all'urto del plasma

Specifiche

• Può essere personalizzato secondo l'elaborazione dei disegni del cliente.